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開設課程

課程名稱:107學年度下學期精密儀器概論(一)

上課時間:108年2月21日起,每週四18:30 - 21:20 (I,J,K)

上課地點:工程四館219室

課程

授課教師

上課時數

上課日期

課程簡介
半導體製程概論(1)氧化、擴散、二次離子質譜儀
崔秉鉞 3小時 2月21日
半導體製程概論(2)薄膜沈積、微影、蝕刻 趙天生 3小時 3月7日
紅外線與拉曼散射光譜儀 孫仲銘 3小時 3月14日
高效能可變溫多功能X光繞射儀 黃爾文 3小時 3月21日
第一次期中考 崔秉鉞 3小時 3月28日
氣相與液相層析質譜儀 謝有容 3小時 4月11日
核磁共振光譜儀 孫仲銘 3小時 4月18日
光學影像 王雲銘 3小時 4月25日
多光子共軛焦顯微系統 趙瑞益 3小時 5月2日
高精密度磁性量測系統(超導量子干涉儀) 林俊源 3小時 5月9日
第二次期中考 崔秉鉞 3小時 5月16日
歐傑電子顯微鏡 徐雍鎣 3小時 5月23日
電子顯微鏡 吳文偉 3小時 5月30日
低溫陰極螢光分析系統 周武清 3小時 6月6日
離子聚焦系統 吳耀銓 3小時 6月13日
期末考 崔秉鉞 3小時 6月20日